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原位薄膜厚度測(cè)量?jī)x

簡(jiǎn)要描述:原位薄膜厚度測(cè)量?jī)x-MPROBE 50 INSITU-昊量用于測(cè)量薄膜厚度和 n&amp;k(光學(xué)常數(shù))的實(shí)時(shí)光學(xué)測(cè)量?jī)x。該系統(tǒng)可以在高環(huán)境光下工作,因?yàn)樗褂瞄T控?cái)?shù)據(jù)采集。

  • 產(chǎn)品型號(hào):MPROBE 50 INSITU
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2022-04-13
  • 訪  問  量:1389
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原位薄膜厚度測(cè)量?jī)xMPROBE 50 INSITU

原位薄膜厚度測(cè)量?jī)x


原位薄膜厚度測(cè)量?jī)x用于測(cè)量薄膜厚度和 n&k(光學(xué)常數(shù))的實(shí)時(shí)光學(xué)測(cè)量?jī)x。該系統(tǒng)可以在高環(huán)境光下工作,因?yàn)樗褂瞄T控?cái)?shù)據(jù)采集,使用高強(qiáng)度閃光氙燈在寬帶 ( UV-NIR) 波長(zhǎng)范圍內(nèi)進(jìn)行精確測(cè)量。MProbe 50 系統(tǒng)是*可定制的,以支持不同的真空室幾何形狀。根據(jù)可用的光學(xué)端口,可以使用斜入射或垂直入射。光可以聚焦在樣品表面或準(zhǔn)直。反射探頭可以放置在沉積室光學(xué)端口的外部或內(nèi)部(使用光纖饋通)。MProbe 50 系統(tǒng)沒有活動(dòng)部件。典型測(cè)量時(shí)間~10ms。可以快速可靠地測(cè)量任何半透明薄膜。


優(yōu)勢(shì):

1.原位薄膜厚度和 n&k 測(cè)量

2.用于高環(huán)境光環(huán)境下測(cè)量的門控?cái)?shù)據(jù)采集

3.材料:500+ 擴(kuò)展材料數(shù)據(jù)庫

4.連續(xù)、快速和可靠的測(cè)量

5.靈活的配置——*定制以匹配沉積室的幾何形狀


選型列表:

MProbe50

波長(zhǎng)范圍

   厚度范圍

  VIS

400nm -1100nm

  15nm – 20 μm

HRVIS

700nm-1000nm

   1μm-400μm

  NIR

900nm-1700nm

 100nm – 200μm

 UVVisF

200nm -900nm

  1nm – 20μm

UVVISNIR

200nm-1700nm

  1nm -200μm

XT

1590nm -1650nm

  10μm-1mm



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